Semi-conducteurs : la Chine bientôt capable de produire des puces de 28 nm ?

La Chine serait sur le point de lancer sa toute première machine de lithographie à 28 nanomètres (nm) dans les prochains mois, un équipement indispensable dans la chaîne de production des semi-conducteurs : voici l’annonce faite par le média d’État chinois, le Securities Daily le 1ᵉʳ août, qui dit se baser sur une source anonyme. Il s’agirait, si l’information se confirme, du tout premier équipement DUV (pour ultraviolets profonds) à immersion fabriqué en Chine à atteindre les 28 nm.

Cet équipement serait effectif dès la fin de cette année. On ne sait pas s’il pourrait être produit en grande quantité. L’article original n’était plus disponible le mercredi 2 août, mais il a été cité par d’autres médias chinois et étrangers, dont l’agence de presse officielle Xinhua et Bloomberg. Le système serait capable de graver des circuits dont la taille est de 28 nm, malgré les mille et une mesures américaines visant à empêcher l’industrie chinoise de se fournir en puces électroniques.

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Une machine pour être moins dépendant de ASML

Cette prouesse ou ce pied de nez à Washington, selon les points de vue, serait l’œuvre de Shanghai Micro Electronics Equipment Group (SMEE), une entreprise qui pourrait faire partie des quelques fleurons du secteur à avoir bénéficié de chèques en blanc de Pékin. En mars dernier, le Financial Times rapportait que le gouvernement chinois avait choisi de subventionner massivement, et sans limites, quelques entreprises locales pour « sortir l’industrie de la misère », expliquait alors un responsable gouvernemental interrogé par nos confrères.

Depuis des années, les États-Unis tentent de couper la Chine de semi-conducteurs, ces composants indispensables de nos smartphones et de l’IA, en utilisant notamment l’arme juridique des contrôles aux exportations. Cet isolement forcé a contraint la Chine à se lancer dans la création, de A à Z, d’une chaîne de production des puces électroniques locale. Sur cette route extrêmement longue et coûteuse, les difficultés semblaient s’y accumuler, jusqu’à présent. Or, l’annonce de cette toute première machine — si elle se confirme — serait une petite victoire pour Pékin, même s’il reste encore un très long chemin à parcourir.

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Le pays cherche à développer ses propres équipements de production de puces, un secteur actuellement dans les mains de ASML Holding NV et de Tokyo Electron Ltd, les deux plus gros fournisseurs de machines de la planète. Or ces deux sociétés (respectivement néerlandaise et japonaise) appliquent les restrictions américaines sur les équipements de fabrication de puces – y compris leurs composants – depuis la signature d’un accord entre les États-Unis, le Japon et les Pays-Bas.

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Les machines d’ancienne génération (DUV) d’ASML et de Tokyo Electron ne seraient bientôt plus livrées

Jusqu’à présent, la Chine pouvait encore se fournir en machines de lithographie par immersion à ultraviolets profonds (DUV), fournies par ASML — des machines d’ancienne génération, qui permettent de fabriquer des puces pour les voitures ou d’autres objets connectés. L’entreprise néerlandaise a déjà refusé de livrer aux clients chinois ses dernières machines à ultraviolets extrêmes (EUV). Il s’agit des équipements les plus innovants permettant de fabriquer des puces de moins de 7 nanomètres destinées aux smartphones et à l’intelligence artificielle.

Et les règles sont sur le point de se durcir davantage : ASML pourrait, à partir du 1ᵉʳ septembre, ne plus fournir ses équipements DUV — d’ancienne génération — à ses clients chinois. Son homologue japonais fait déjà de même : il a commencé, dès la fin juillet, à restreindre l’exportation de 23 types d’équipements et de matériaux de pointe liés aux puces. L’annonce non officielle de SMEE, qui concerne justement une machine DUV, tombe donc à pic.

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Fondée en 2002, l’entreprise chinoise avait déclaré, lors de son introduction en Bourse l’année dernière, que la présence d’équipements étrangers créait des risques pour ses activités – des risques qu’elle comptait bien réduire, le plus rapidement possible. Selon le South China Morning Post, la société était jusqu’à présent capable de produire des machines de lithographie d’une résolution de 90 nm, permettant de fabriquer des « puces bas de gamme ». Passer de 90 à 28 nm serait donc une véritable avancée, même si la Chine est encore loin d’atteindre la finesse des derniers équipements en développement. Les champions mondiaux du secteur travaillent sur des productions en 3 nm, voire en 2 nm.

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Contactée par nos confrères de Bloomberg, SMEE n’a pas souhaité commenter cette information. Hasard du calendrier, cette annonce — non officielle — a lieu 24 heures après l’entrée en vigueur d’une réponse de la Chine aux restrictions américaines. Depuis le 1ᵉʳ août, les exportations de deux métaux rares dont elle est la principale productrice, le gallium et le germanium, sont limitées. Or, il s’agit de composants essentiels à l’industrie des semi-conducteurs.

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Source : Bloomberg